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投資台積電外也了解一下台積電的一些技術原理吧！💡
奈米製程裡用到的EUV技術，極紫外光是什麼呢？雖然三星、Intel英特爾也有EUV曝光機，但是最終能夠駕馭這個技術並穩定量產的還是台積電，這個原因是什麼？
就讓我們在內容中解答～💡💡💡
臺積電以先進封裝技術搶佔5G和高性能運算芯片市場 客戶羣已囊括所有5G芯片供應商
PS：在下一代半導體的核心技術中，絕不僅僅只有EUV光刻那麼簡單，高階封裝絕對會是另一個核心科技，尤其是3D異質整合技術，是維繫半導體芯片尺寸不斷微縮和效能不斷提升的關鍵因素。之前也講過，臺積電下一階段的經營重點之一會集中在先進封裝技術上 。
下一代3D異質整合技術事實上也離不開光刻（理論上講也是可以轉做電晶體的刻蝕，但只能用於14-16nm製程工藝，已經算不上先進製程）。3D IC光刻這個技術臺灣是相當領先的，我也做過介紹（圖3）。這個刻蝕技術主要是用來微縮並堆疊矽薄膜通道所用，通過對矽薄膜通道的光刻和TSV（垂直穿孔技術）縮短電子在電晶體之間移動的距離，當不同類型的電晶體以同一種矽薄膜材料爲基板時，就能實現不同電晶體之間的異質整合和3維化堆疊，大幅縮小元件尺寸的同時也縮小了不同元件之間的電子通道距離（3D IC堆疊可以縮短最少90%間距），帶來的是電子遷移更快，提升整合芯片系統的整體運算頻率。
原理雖然簡單，但是光是3D IC光刻技術就是非常高的門檻，更別提厚度僅有15nm的矽薄膜材料如何在數十層甚至數百層的堆疊和打孔過程中保證任何一層都不能破損、折斷，這些技術也是困擾業界將近20年的難題，到今天來說，臺積電是唯一一家可以小規模量產並提供這項技術的廠商。本人仔細查閱了臺積電的技術資料，沒有提供更多的技術細節，因此這個技術如何實現還是商業機密，應該短期內沒有公開的可能性。
投資台積電也了解一下台積電的技術護城河在哪裡吧！奈米製程裡用到的EUV技術，極紫外光是什麼呢？雖然三星、Intel英特爾也有EUV光刻機/曝光機，但是最終能夠駕馭這個技術並成功量產的還是 2330 台積電。
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EUV的成果是2330台積電股價可以攀升的原因之一。為什麼呢？因為臺積電在這個製程領先才能在7奈米、5奈米上領先對手三星、Intel，讓訂單持續湧入。臺積電在防塵技術上的突破，就算是一顆奈米級的灰塵也會因此影響半導體廠的生產良率，而EUV光刻機對於防塵的要求又比過去採用DUV光刻機時更高，因此在三星及Intel都還卡在防塵處理這關時，台 積 電 成功改良了光罩防塵技術，就因此讓TSMC成為全球首間導入EUV技術並且達成量產的廠商，在7奈米的訂單上大幅超越死敵三星。
極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光，lithography最早是石版印刷的意思，現在也被用來稱呼為光刻技術，所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行雕刻”的意思，那要雕什麼呢？要雕晶圓。
延伸閱讀：
台積電如何在財務數據打趴中芯國際
https://www.stockfeel.com.tw/?p=97264
挑戰晶圓代工霸主(I)─台積電VS聯電
https://www.stockfeel.com.tw/?p=41088
格羅方德退出 7 奈米 台積電笑納 AMD 需求
https://www.stockfeel.com.tw/?p=70550
資料參考：
《一文看懂光刻機》
《晶圓代工爭霸戰：半導體知識(前傳) 》
《拿走英特爾的皇冠、超車三星，台積電贏在一顆奈米級灰塵 》
股感：https://www.stockfeel.com.tw/
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台積電拚5奈米關鍵技術！影片直擊極紫外光EUV微影技術是怎麼運作的https://www.bnext.com.tw/article/57392/asml-euv-tsmc-how-to-operation
何謂 EUV 微影？https://www.gigaphoton.com/ct/technology/euv-topics/what-is-euv-lithopgraphy
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