關於 掃描式曝光機原理 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 核桃上雕船有什麼稀奇，來看看頭髮絲上刻一個體育館！

投影曝光機工作原理類似於照相機（如下圖所示），工作過程中將掩模版（外部 ... 除此以外，投影曝光機具有掃描式成像的曝光能力，工作效率極高。

#12. 紫外曝光機 - 中文百科全書

紫外曝光機背景,系統組成及其工作原理,性能指標,分類,接觸式曝光,接近式曝光,投影式 ... 紫外曝光機，也稱光刻機、掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是印刷線路 ...

#13. 什么是步进扫描光刻机？国产光刻机与ASML差距多大？ - 网易

步进式扫描光刻机的工作原理是，单场曝光采用动态扫描方式，即掩模板相对晶圆同步完成扫描运动；完成当前曝光后，晶圆由工作台承载步进至下一步扫描场 ...

#14. 中華大學碩士論文

本論文將依照以下章節分別闡述：第二章的部份是敘述疊對(overlay)原理，2.1. 節簡單的介紹了微影工程，所謂曝光機整合系統包含了晶圓軌道機(track)及曝光機. (stepper/ ...

#15. 先進光學曝光系統與極紫外光(EUV)就? | Ansforce

Projection printing. 步進式曝光機. 步進機. Stepper. 掃描式曝光機. 掃描機. Scanner. 次微米製程. 奈米製程. 紫外光. UV. Ultraviolet. 汞燈. Mercury lamp.

#16. 以電子顯微鏡為基礎之電子束曝光機的改裝與應用 - 儀科中心

但是由於此型式之電子顯微鏡通常不具. 備高解析度，因此解析度可能會比較差。冷陰極場. 發射式電子顯微鏡之電子束是利用場發射原理發射. 出來，由於針尖細，電子束也較 ...

#17. 半導體產業不可或缺的曝光機，是「這些企業」的心血結晶！

△EUV 曝光機的內部工作原理（來源： ASML ） ... 值得一提的是，為了進一步降低λ ，產業界在曝光機演進的過程中，還引入了浸潤式曝光系統，讓DUV在 ...

#18. 印刷電路板無光罩數位成像資料處理技術

前已有大板面的直接成像為雷射掃描成像、雷 ... 大鏡面光學掃描技術進軍無光罩曝光機，其最 ... 建置機台的成本較光罩式曝光機還高1.5倍，而. 其資料處理流程在進入高 ...

#19. Y1D25—半导体光刻技术概述 - 知乎专栏

接触式、接近式、投影式光刻机原理图 ... 第四代浸没扫描式光刻机(DUV Immersion Scan)，将曝光镜头浸没在水中，增加数值孔径 ，进一步提高分辨率，工艺节点22nm。

#20. 技术／设计| 半导体曝光装置 - 尼康

ArF液浸扫描式曝光机NSR-S635E，是一款为满足5nm工艺节点量产而开发。该曝光机可达到2.1nm以下的设备间重合精度(MMO※)和275片/每小时以上高吞吐量。

#21. AMOLED需要的核心工艺设备曝光机，有几个了解这么多……

原理 是紫外光经过MASK对涂有光刻胶的ITO玻璃曝光，曝光后的玻璃经显影产生 ... 在扫描式面镜曝光机中, 曝光时掩模板和基板同时移动, UV光通过Slit以扫描方式投影曝光。

#22. 從頭了解光刻機 - YouTube

#23. (11)證書號數

(contact aligner)、電子束直寫系統(e-beam writer)以及利用類似投影機原理的步. 進式(stepper)或掃描式(scanner)曝光機,以獲得曝光圖樣。 【0003)而半導體產業的新 ...

#24. 想了解億元光刻機的發展歷史，看這一篇就夠了 - 壹讀

1980年代，美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，集成電路圖形線 ... 機，推出EX3L和5L步進機；ASML推出FPA2500，193nm波長步進掃描曝光機。

#25. 步进式曝光机原理 - 手机问答网

步进式曝光机原理. 曝光机工作原理在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶, ...

#26. টুইটারে tuzzi: "曝光機- Wikiwand https://t.co/kCRRA3ZEAj "生產 ...

... 與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光機（ ...

#27. 光刻机 - 万维百科

... 曝光时模板紧贴晶圆；以及利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（英语：stepper）或扫描式光刻机（英语：scanner），获得比模板更小的 ...

#28. 真空技術的重要應用：詳解光刻技術的原理 - 真空泵的工作原理

1980年代，美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，集成電路圖形線寬 ... 精密以及逐場調平調焦技術，因為光刻機在工作時拼接圖形和步進式掃描曝光的次數很多。

#29. CN101149567A - 步进扫描投影光刻机同步控制器 - Google

图1 (b)是步进扫描投影光刻机曝光扫描基本原理。图2是同步总线控制器在扫描同步控制系统中的结构框图。图3是同步总线数据传输逻辑框图。图4是数据传输序元结构图。

#30. nikon曝光機 - 工商筆記本

尼康的半导体曝光装置对这些产品中不可或缺的半导体元件（半导体集成电路）的发展... 于2016年上市的ArF液浸扫描式曝光机NSR-S631E，是一款为满足7nm工艺 .

#31. 奧寶曝光機– 曝光機廠商 - Amplsh

PCB曝光機設備廠川寶科技1595-TW 稅後盈餘2,93億元，每股稅後盈餘達7,58元，川寶 ... 雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語, stepper ）或掃描式曝光機（英語, ...

#32. 半導體光刻機專家交流議紀要 20201218 - 劇多

後發展到6寸、8寸和12寸的非貼近式曝光，一種是步進式光刻機，用於老裝置，一個個圖形像蓋章蓋過去；另一種是掃描式曝光，現在主流裝置都在用。

#33. 定义什么意思光刻机

成像仪 0.676770. 面阵 0.673186. 扫描式 0.672663 ... 光刻机, 曝光機（）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小 ...

#34. 半導體製程技術 - 聯合大學

控制並/或調整光阻在曝光過程的光化學反應. ... 使曝光的樹脂變的能夠溶解在液態的基底溶液(顯影劑) ... 掃描式電子顯微鏡(Scanning electron microscope ；SEM).

#35. 投影式光刻机Projection Stepper（Projection Photoetching

（d）掩模狭缝投影成像原理. 图1 步进-扫描式光刻机曝光方式示意图. 曝光扫描结束后，曝光系统步进式移动到下一个位置。图1（c）是步进和扫描运动的 ...

#36. 真空技术的重要应用：详解光刻技术的原理

1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形 ... 调平调焦技术，因为光刻机在工作时拼接图形和步进式扫描曝光的次数很多。

#37. 光刻机工艺的原理及设备 - 半导体芯科技

关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于 ... 当然实际过程肯定没这么简单，上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例 ...

#38. 步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统 - Google Patents

本发明即适用于光学扫描投影光刻机，可适用于极紫外扫描曝光机，以及其它微细加工设备的同步控制。 ... 下面从步进扫描曝光过程说明同步误差的形成原理。

#39. 雷射光繪機 - 華人百科

雷射光繪機是用雷射對菲林進行掃描產生圖形的，其原理正如電視機顯像管中 ... 曝光採用掃描式，無論密度多大，均能在最短時間內完成曝光，繪製一張底片只 ...

#40. 機器視覺檢測系統攝影機的應用 - 中央印製廠

曝光 成像，而不會因為不可見光的光線波. 長干擾而影響成像結果。 工業攝影機以取像原理來區分，主要. 包括面掃描式（Area-Scan）及線掃描式. （Line-Scan）兩種型式。

#41. Viewing the UV-photoresist using SEM 光刻膠的電鏡觀察

紫外曝光技術的原理可以簡述為：利用紫外光促. 使光刻膠發生化學反應從而將掩膜版的 ... 紫外曝光機主要由紫外光源及對準系統組成。紫外光源必需 ... 掃描式電子顯微鏡.

#42. 微影照像

2. 上光阻，旋轉使其均勻，並控制光阻厚度，烘烤除去光阻中的殘餘溶劑，此. 步驟稱為軟烘烤（soft bake）。 3. 曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機 ...

#43. 國立中山大學物理研究所碩士論文

利用曝光、微影和蝕刻技術先製程20μm 的線寬；而為了觀察GaN 半 ... 打到指定的點以達定點切割，並結合掃描式電 ... (1) 曝光機電源打開後，先關掉Mask Vacuum。

#44. 半導體裝置之光刻機原理及發展 - 日間新聞

1、光刻機原理光刻的原理是在矽片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠， ... 不同區域的曝光。1986年ASML首先推出步進式掃描投影光刻機，實現了光刻 ...

#45. 光刻机详解-面包板社区 - 电子工程专辑

目前的浸没式光刻机主要采用局部浸没装置，仅仅在投影物镜最后一个透镜的下表面和硅片光刻胶之间的空间内注入或排出浸没液体。在扫描、曝光、液体的供给及 ...

#46. 全球光刻机龙头是怎样炼成的 - 极术社区

光刻机工作原理：光刻机是一种投影曝光系统，由紫外光源、光学镜片、对准系统等 ... 第四代步进式扫描投影光刻机，采用ArF激光光源，通过实现光刻过程中掩模和硅片的 ...

#47. 摘取光刻机皇冠上的明珠——ASML

ASML计算光刻方案的基本原理是应用计算仿真的方法，将包含照明光源、掩模、投影物镜 ... 2.1 光刻机曝光方式:目前行业主流是步进扫描式.

#48. 台積公司表示浸潤式曝光顯影技術不久後可邁入量產

然而，利用浸潤式掃描原型機台但未使用台積公司專有技術所產出的晶片，其晶片缺陷數目高達數十萬個。此外，目前已發表的報告中，浸潤式曝光顯影技術產出 ...

#49. CANON 高階全數位光學振鏡 - KYODEN 京傳企業股份有限公司

CANON 數位式雷射掃描振鏡系列. GM-1010, GM-1015, GM-1020 · 以世界一流的半導體曝光機的光學技術所製造的核心振鏡產品，可提升雷射在各產業應用，大幅提高加工精度與 ...

#50. AMOLED与LCD都需要的核心工艺设备曝光机 - 360doc个人 ...

原理 是紫外光经过MASK对涂有光刻胶的ITO玻璃曝光，曝光后的玻璃经显影产生 ... 在扫描式面镜曝光机中, 曝光时掩模板和基板同时移动, UV光通过Slit以 ...

#51. 光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术—中国光学期刊网

2 基本原理. 2.1 光刻机照明系统. 步进扫描投影光刻机曝光光学系统由照明分系统和投影物镜分系统组成,如 图1 所示,其中, z 向为光轴传输方向, x 向和 y 向分别为掩模台 ...

#52. 光刻技術的原理和EUV光刻技術前景 - 數位感

1980年代，美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，集成電路圖形線寬 ... 精密以及逐場調平調焦技術，因為光刻機在工作時拼接圖形和步進式掃描曝光的次數很多。

#53. 博碩士論文行動網

... 化的演算，再將實際掃描式平行曝光機可能的光源組偏移誤差帶入演算法中計算最佳間距，建立配合反射元件的虛擬光源，增加可用的工作面積，最終完成仿真LED平行曝光 ...

#54. 6 Photolithography

列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) 系統 g p. ) •敘述晶圓在步進機整合系統(track-stepper ... 掃描式電子顯微鏡(Scanning electron microscope SEM).

#55. 光刻機原理 - Xianjin

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻 ...

#56. CR、DR 的工作原理及選擇應用 - 楓展貿易有限公司

2．1 CR的工作原理-2. ○ IP板在X線曝光後將X線的圖像資訊存儲在感. 光屏將利用雷射作掃描。在掃描時，感光屏會. 釋放出相對於X光曝曬量的亮度，這亮度會被.

#57. orc曝光機

ORC 曝光機台用工業電腦Win XP 2001 用二手機台拆下已整修保固半年有需要可以聊聊 ... 雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語, stepper ）或掃描式曝光機（英語, ...

#58. 晶圓級封裝凸塊介電層製程技術之改進

表面粗度（Root-mean-square, R q），另外藉由掃描式電子顯微鏡（SEM）在產品 ... (2) 曝光（Exposure）：執行曝光的機器通稱為曝光機，其功能以近接式（Proximity） ...

#59. scaner 掃描器原理

一般的平板式掃描儀屬于反射式掃描儀，其基本原理如圖3所示。它適合于不透明的文件、圖片的掃描。對于膠片，包括普通照相膠卷底片、醫用X光底片、印刷行業 ...

#60. 掃描器原理是什麼掃描器組成結構介紹【詳解】 - IT145.com

瞭解了掃描器的構成之後，下面來談談掃描器的工作原理。一般來講，掃描器掃描影象的方式大至有三種，即：以光電耦合器(CCD)為光電轉換元件的掃描、以接觸式影象感測器CIS( ...

#61. 深度探究光刻技术的原理和EUV光刻技术前景 - 电子发烧友

1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形 ... 调平调焦技术，因为光刻机在工作时拼接图形和步进式扫描曝光的次数很多。

#62. 3D掃描技術-光學式3D掃描流程解析 - 起點設計

首先將掃描物件放置在桌面上，掃描器與物件保持在適當的距離，同時確認物件在感光元件的範圍，接著根據周圍的明暗程度調整曝光值，距離及曝光值都調整好後即可開始掃描 ...

#63. 「光罩曝光機」懶人包資訊整理 (1) | 蘋果健康咬一口

本公司除提供光罩对准曝光机等黄光设备以外，也提供制程材料，尤其 ... ,本技術結合數位光學處理技術、微透鏡與空間濾波器陣列、精密伺服運動控制，形成一完整之無光罩式 ...

#64. 科技部(財團法人國家同步輻射研究中心) 「突破半導體物理極限 ...

近三年主要績. 效. 1. 小型步進式曝光機(5μm)與對準式曝光機(2μm)之系統組裝、測試與優化，. 整合投影鏡頭、光源系統、光罩/晶圓對位平台與整機結構等，此技術將.

#65. 一文詳解光掩模技術及其在中國的發展歷史與現狀

投影光掩膜被用在步進式光刻機（stepper）和掃描式光刻機(Scanner)‚，需要 ... 直寫式電子束的曝光原理是將聚焦的電子束斑直接打在光刻膠的表面，加工 ...

#66. NPGS 电子束曝光系统（电子束微影光刻系统）介绍JC Nabity ...

上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM 及FIB 的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity. Lithography Systems 公司成功研发了基于改造商品SEM、STEM 或FIB ...

#67. 株式会社菱光社

曝光裝置、奈米壓印裝置、各種鍍膜裝置、細微加工裝置 ... デモ機. 高度測量範圍. 高度測量解析度. 高度測量重複精度. Y軸掃描寬度 ... 相當於精簡曝光機的高速度.

#68. 全球光刻机龙头是怎样炼成的 - 半导体行业观察

光刻机工作原理：光刻机是一种投影曝光系统，由紫外光源、光学镜片、对准 ... 首先推出第四代步进式扫描投影光刻机，采用ArF激光光源，通过实现光刻 ...

#69. 光刻技术发展启示录

孔径，进一步提高成像分辨率。 ○ 投影式光刻结合扫描机械工件台实现步进扫描曝光，实现批量化。 投影光刻工艺. 光学成像的原理 ...

#70. 高级光刻工艺（三） « 技术资讯 - 射频君的原创及分享哦

光刻胶的曝光图形分为光栅式和矢量式（参见下图）。光栅式扫描是电子束从晶圆一边扫描到另一边然后向下。计算机控制方向和开关电子束。光栅式扫描的紈 ...

#71. 曝光機工作原理及曝光機能量檢測專用設備

針對UV LED曝光機的UV LED燈的能量檢測，需要用到專業檢測UV LED燈的uv能量計廠家-速德瑞生產研發的SDR365主機加探頭式設計的紫外輻照計，可能量強度同時檢測滿足客戶一機 ...

#72. 电子束光刻– 概述 - Litho wiki

我们前面介绍过很多关于紫外光刻的原理和工艺过程。 ... 年代出现的扫描电子显微镜的出现，扫描电子显微镜的结构已经与电子束曝光机无本质区别了。

#73. CANON 高階全數位光學振鏡 - 京傳企業股份有限公司

CANON 數位式雷射掃描振鏡系列. GM-1010, GM-1015, GM-1020 · 以世界一流的半導體曝光機的光學技術所製造的核心振鏡產品，可提升雷射在各產業應用，大幅提高加工精度與 ...

#74. 光刻：以光为刀，以器为挟—兼各类图案化技术浅析 - 科学网 ...

现在制造半导体芯片所用光刻的原理很简单：在晶圆上旋涂一定厚度的光刻胶等 ... 光刻机发展历史上除了浸入式曝光外的另外一个结构创新就是双工作台 ...

#75. 奈米碳簇材料於氣體感測器之研發研究成果報告(精簡版)

以及歩進距離之調整，並學習SEM 電子掃描式顯微鏡搭配電子束曝光機之原理。 第五天行程:實際操作曝光之流程，並完成顯影定影等後段製程動作。

#76. 光刻机详解

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。 ... 投影式光刻机又分为扫描式和步进式，扫描式采用1：1 光学镜头，由于扫描投影分辨率不高， ...

#77. 各種不同的3D掃描技術原理知多點

CMM 3D掃描機有一條類似探針的部件來測量物件表面輪廓，從未得出準確的3D物件數據。 ... 而利用結構光3D Scan 技術原理的3D 掃描器有手提式的也有坐檯式的。3D掃描質素 ...

#78. 从头了解光刻机-半导体新闻-摩尔芯球 - 芯片

1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形 ... 尺寸的显微切割仪器，她的原理与电子束光刻相近，不过是有电子变成离子。

#79. 202112AUG 如何挑選3D 相機進行工業量測檢測

線雷射輪廓掃描: 其原理乃用線型雷射投影在待測物上，再用相機傾斜一個夾角拍攝 ... 等待的時間愈久對於效率產出就會有影響，故投影器的高速閃頻及相機的同步曝光、組 ...

#80. 徠卡雷射掃描共軛焦顯微鏡之技術與應用概論LEICA Confocal ...

Point scanning 的呈像原理 ... 傳統的濾鏡式共軛焦掃描器的雷射光源( UV-laser, VIS-laser, IR-laser ) 可經由濾鏡( A ... stereolithography ) 或全像曝光術的應用.

#81. 設備介紹| 聲光電暨奈微米結構實驗室 - 首頁

其功能為針對光罩上的圖形精準的對齊在基材(晶圓)上，然後再進行曝光的動作。 ... 本電腦化操作之高解析場發射掃描式電子顯微鏡，其特點為以熱場發射電子槍產生能量均 ...

#82. 一文读懂光刻机的发展历程 - 芯扒客

1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形 ... 尺寸的显微切割仪器，她的原理与电子束光刻相近，不过是有电子变成离子。

#83. 自動化阻劑處理系統介紹 - 旋寶好化學

對準及曝光需用光學步進機或光學掃描機機台. 來完成，其原理、機台設計及製程參數相當複雜，. 限於篇幅，在此不作介紹。 7. 曝後烤. 曝後烤(post exposure bake) 的主要 ...

#84. 光刻机原理介绍_科技 - 雅荷网

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。 ... 高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十 ...

#85. 约附近100米学生,附近出来卖的学生怎么约

東莞市嶺峰鑫機械設備有限公司主要從事傳統曝光機、LED曝光機，掃描曝光機等產品的研發與生產，擁有完整、科學的質量管理體系。 東莞市嶺峰鑫機械設備有限公司的誠信、 ...

#86. 光刻机霸主阿斯麦封神之路 - 智东西

步进式扫描光刻技术的原理是，光线透过掩膜板上的狭缝照射，晶圆与掩膜板 ... 根据林本坚团队的研究，他们提出了一种曝光机，可以保持水的洁净度和 ...

#87. 光刻技术的原理和EUV光刻技术前景 - 中国科学院半导体研究所

1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形 ... 调平调焦技术，因为光刻机在工作时拼接图形和步进式扫描曝光的次数很多。

#88. 第二十三章半導體製造概論

研磨拋光是以機械與化學加工方式同時進行，機械加工是將晶圓放置在研磨機內，將加工 ... 光劑易曝光，得在黃色燈光照明區域內工作，所以叫做「黃光區」。 （二）蝕刻.

#89. 從頭了解光刻機| 尋夢新聞

1980年代，美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，集成電路圖形線寬 ... 極端紫外光刻技術所使用的光刻機的對準套刻精度要達到10nm，其研發和製造原理實際上和 ...

#90. 半导体最强工艺——光刻技术 - 与非网

1980 年代，美国SVGL 公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形 ... 平调焦技术，因为光刻机在工作时拼接图形和步进式扫描曝光的次数很多。

#91. 扫描干涉光刻机光束位姿自动准直系统设计

扫描 干涉光刻过程中，为实现精确曝光拼接，需要将干涉曝光光束精确准 ... 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12]，其基本原理是利用诸如位置敏感探测器(position ...

#92. 以電子顯微鏡為基礎之電子束曝光機的改裝與應用

Airiti Library華藝線上圖書館.

#93. 3D scanner-Rexcan 4 - 3DR

使用全新設計理念與機械式光柵系統，並全機配備德國最先進光學鏡頭。Rexcan 4 全面提升解析度與精密度，讓掃描品質更加的細緻化。 Rexcan4 是一款強調掃描品質極精準、以及 ...

#94. 电子束曝光技术

2、电子束曝光设备NB5介绍. 3、电子束曝光参数指标. 4、电子束曝光工艺 ... 1.1 电子束曝光原理 ... 式，是扫描式曝光。 3 nb5主要参数指标 ...

#95. 曝光機原理曝光機 - Tlabt

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語： stepper ）或掃描式光…

#96. 步进光刻机主要参数 - 三人行教育网

网友问题：伺服电机的原理怎样？ ... 投影式曝光分类： 扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸； 步进重复 ...

#97. 教學設備– 首頁 - 屏科材料

根據離子濺射原理進行薄膜製程。 ... 根據所需條件可以調整重複頻率、瓦數、掃描速度等參數對樣品加工。 圖片3 ... 採用直動式檢出器，無ARC 誤差問題。 3.

#98. 光刻機到底是什麼？頂級光刻機只有ASML製造？他們延遲出貨 ...

1980年代，美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，積體電路圖形 ... 尺寸的顯微切割儀器，她的原理與電子束光刻相近，不過是有電子變成離子。

#99. 光學及半導器材專家

Teltec Semiconductor Pacific Limited,香港電子器材有限公司.