關於 半導體顯影液成分 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 半導體光阻材料技術

以下將針對各種不同光阻材料的組成與曝光顯影作用機制做說明介紹。 1. G ... 液中的溶解速率降低，此時，DNQ扮演溶解抑制劑的角色。而當DNQ在紫外線 ...

#12. 半導體用光阻劑之發展概況

光阻劑分為正型光阻及負型光阻，因感光材料特性的關係，顯影結果也會有所差異。正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離； ...

#13. 顯影液 - 壬輝有限公司

NP-100系列均不含二甲苯及苯類成份，具較低的溶解性，較不會造成光阻的膨脹，而有較佳的影像解析度。NP-100系列不含毒性管制物質、亦不含鈉、鉀金屬離子，可避免對半導體 ...

#14. 微光電實驗室 - 國立中央大學

TMAH(顯影液成分)為強鹼，濺觸時可使用敵腐靈除污。 葡萄酸鈣較不適用於急救防護 ... 近年來，TMAH大量地使用在半導體與光電等電子高科技產業中，其主. 要用途是在黃光 ...

#15. 濕式化學品在半導體製程中之應用

料如表五所示，包含有光阻、光阻稀釋. 液及顯影劑等。 光阻. 半導體製程所使用的光 ... 膜材料之研磨目的，其主成分可分為兩. 大類：. (1) 介電層平坦化研磨液：溶有矽土.

#16. 光阻劑- 微影製程

光阻成分. • 高分子. • 溶劑. 1. 溶解高分子. 2. 允許光阻藉由旋轉塗佈而成. 薄層以 ... 液中樹. 脂溶解性變更佳. • 較高之解析度( < 3 μm). • IC製程常用. Page 4. 7. 光阻 ...

#17. 光阻基本原理

... 顯影液之溶解度不同而達到圖案轉移目的。 三成份光阻試劑中，除了高分子樹脂及光酸產生劑以外，還加了溶解抑制劑，其化學結構如圖一。 在曝光區溶解抑制劑會跟質子酸 ...

#18. 工學院半導體材料與製程設備學程

顯影是. 將不需要留下的光阻溶解並去除，僅保留需要的圖案，若使用的是. 負型光阻，則曝光區域的光阻會交聯成不容易被顯影液溶解的長鏈 ... 判定薄膜的化學成分、成分比例與 ...

#19. 化學藥品之MSDS

化學藥品之MSDS · 1.正光阻FH6400 · 2.負光阻HR-200 · 3.正光阻AZ6112 · 4.正光阻AZ P4620 · 5.正光阻AZ5214E · 6.顯影液 FHD 5(FH 6400) · 7.顯影液 AZ 300MIF DEVELOPER(AZ 6112).

#20. 特殊有機廢溶劑純化再利用之研究

本研究廢光阻液取自A 廠(其成分組成如表3 所示)，係A 廠與日本 ... 光阻液剝離劑使用在ITO(透. 明導體薄膜-氧化銦錫,Indium Tin Oxide)顯影蝕刻製程中，進行光阻液之剝離。

#21. 奇美實業- 特用化學品,光阻,配向膜,濕式化學品

... 成分。奇美配向膜配合液晶使用時， ... 我們提供顯影液、剝離液、清潔液及洗邊液。前述化學品可減少加工期間的污染或瑕疵 ...

#22. 光蝕刻技術(photolithography)之光阻劑(photoresist)

被光線(例如紫外線)照射的位置，會溶於光阻顯影液；未照射區域則不溶解。 解析度比負型光阻佳，故大部分的半導體製程工廠使用正型光阻劑，成分為酚醛樹脂( ...

#23. 產品應用

正向型光阻其照到光的部分會溶於光阻顯影液，而沒有照到光的部份不會溶於光阻顯影液。 ... 成分，形成色相之來源，成本也較高，其單價約是APR的2-3倍以上，具有較高耐化學性 ...

#24. 半導體顯影劑成分2023-精選在臉書/Facebook/Dcard上的焦點 ...

應用範圍: 化學品原料控管：顯影劑、蝕刻液、光阻劑、UPW；製程污染: 半導體蝕刻製程、生產製程段(空氣中微量金屬檢測)；晶圓表面殘留；化學廠生產品質控 ...

#25. 乾膜光阻去除

... 半導體濕製程設備產業中的領導品牌， ... 廢液容易處理，不會造成環保問題。 光阻剝離劑(PR Stripper)有四種主要化學成份，其個別成份之功能和注意事項如下： ...

#26. 液晶顯面板生產用顯影劑TMAH系列

... (顯影液). 產品用途：. 半導體領域：有機材料蝕刻中TMAH作為正膠顯影劑，有機材料蝕刻主要是指光刻膠在經過顯影和圖形轉移後的去膠；TMAH是一種具有優良的腐蝕性能的各向 ...

#27. (B)光阻曝光'顯影

刻液（可爲與光阻圖型之顯影使用之鹼性顯影液實質相同. 者。以下亦表示爲鹼性顯影 ... 阻成分中的酸產生劑的溶解性最佳之二乙二醇二甲基醚或. 1-乙氧基-2-丙醇、丙二醇單 ...

#28. 自動化阻劑處理系統介紹

目前半導體業的顯影液以不含金屬離子. 且稀釋過的的TMAH (tetramethyl ammonium ... 換而造成溶劑成分瞬間的改變。圖18D 為阻劑吐. 出的行為與厚度的關係，其特徵為中間 ...

#29. 〈分析〉一文解析半導體核心材料：光阻劑

負光阻劑是最早被應用在光刻工藝上的光阻劑類型，它擁有工藝成本低、產量高等優點。 但是負光阻劑在吸收顯影液後會膨脹，這會導致其解析度不如正光阻劑。

#30. 光阻劑是什麼？本篇報給你知！

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。光阻有兩種，正向光阻(positive photoresist)和負向光 ...

#31. 微影

於顯影液的結構. ◇負光阻. ➢光阻遇光後光阻結構加強不溶於顯影劑. ◇好的光阻特性 ... PAC（光活性化合. 物）：正光阻液的感. 光成分。 PAC的解離表示光阻. 內的PAC含量 ...

#32. 顯影液(攝影中所用的顯影液):主要成分,用途,配方, ...

顯影液 指的是洗相片時適用的化學藥劑，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀、硼酸、對苯二酚等。有毒，不可直接接觸肌膚，會嚴重腐蝕。

#33. 光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務

2.2 光阻化學成分簡介. 圖2.2(a)反應是左側的化學式，顯示一個典型的正光阻液的感光成分，或. 稱為光活性化合物(Photoactive Compound)，簡稱為PAC。他本身難溶於鹼性溶.

#34. 光阻- 抖音百科

正向光阻是光阻的一种，其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。 ... 光阻主要由树脂(resin)，感光剂(sensitizer)，溶剂(solvent)三种成分 ...

#35. 光阻稀釋劑

光阻稀釋劑常見的為OK73 或EBR7030 等產品，其中主要成份分別為丙二醇單甲基醚 ... 顯影液 · 酸/鹼溶液 · 矽晶圓silicon wafer · 有機溶劑 · 可剝膠/可剝油墨 · 防焊油墨.

#36. 光阻液

AZ ® 去光阻溶劑是無N-甲基吡咯酮（ N-methylpyrrolidone, NMP）成分的新 ... 顯影液（去光阻液）。 结构[ 编辑] TMAH的市售品以水溶液、甲醇溶液和五 ...

#37. 光阻

光阻液光阻材料簡介光阻主要由樹脂(resin)，感光劑(sensitizer)，溶劑(solvant)三種成分混合而成。 光阻種類: 光阻分為正光阻及負光阻兩種。 1. 正光阻: 光阻本身難溶於 ...

#38. 研發叢書介紹

1.氫氧化四甲基銨（Tetramethyl Ammonium Hydroxide，簡稱TMAH），主要來自各種微影製程顯影段清洗廢水，TMAH為顯影劑之主要成分。推測光電業與半導體業廢水中30～50%的 ...

#39. 默克推出全新環保光阻去除有機溶劑| 新聞中心

針對微機電系統（MEMS）、汽車、電源IC（積體電路）和晶圓級封裝設備市場，AZ ® 910去光阻溶劑產品系列可用於取代複雜且昂貴的以NMP成分為基礎的化學品。相 ...

#40. 曝光顯影 - lekarnavalasskemezirici.cz

通過在曝光過程結束後加入顯影液，正光阻的感光區、負光阻的非感光區，會溶解於顯影液中。 ... 光阻成分高分子溶劑概述. 在硅晶片上涂光阻剂的甩胶机. 利用 ...

#41. 光阻液及顯影液- 半導體材料Wahlee Product

/ 半導體材料 / 光阻液及顯影液. 光阻液及顯影液. Photoresist(光阻) CIS material(影像感應器材料) Developer(顯影液). 聯絡人：; 新竹辦事處〡莊元中〡03-6205888 Ext ...

#42. Photoresist stripper(光阻剝離劑, NMP Type) - 產品項目

NMP,DMSO,MEA三成分為傳統去光阻液所採用,因為每家公司使用狀況不一樣,有的須添加金屬腐蝕抑制劑(Inhibitor),以防止受到鹼性溶劑腐蝕,有的則modify components,選擇或添加 ...

#43. Kayaku Advanced Materials - 光刻膠 - 光學及半導器材專家

光阻顯影機/蝕刻剝離機/ 光阻剝離機 · 濕法蝕刻設備 · 紫外臭氧清洗機 · 紫外線擦除器 · 可 ... 顯影液：SU-8 Developer. 去膠劑：Remover PG. 增附劑：OmniCoat. SU-8 TF ...

#44. 電子化學品-產品分類

... 液以及其他晶邊清洗液配方成分。 環戊酮CPN. CAS NO 120-92-3 多用為PI 光阻之顯影劑。 丙二醇甲醚PGME. CAS NO 107-98-2 主要用途為和PGMEA 調和後作為光阻稀釋液及清洗 ...

#45. 彩色光阻的機制| FPD用彩色濾光片色材

如同上述，照射紫外線等光線後，彩色光阻會具有抵抗顯像液蝕刻的性能（※負型光阻）。 ... 彩色光阻的成分與製造程序. 彩色光阻是在顏料裡添加樹脂與溶劑製成色膏，再添加光 ...

#46. 光阻液 - aib-bayeux.fr

... 显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。光阻剂应用的配方成分多年以来，SACHEM 一直是用于电子应用的显影剂电子配方成分的领先供应商。.

#47. 米雕? 光雕? 來、來、來，簡單玩光學微影曝光!

光阻中主要的成分-感光材料，經光的照射產生化學變化，使正型阻劑對顯影液的溶解速率提升而快速溶解於後續製程的顯影液，再用去離子水去除，形成與光罩相同的圖形；而 ...

#48. 微凸塊與其他結構之銅、鎳、錫銀與鉛電鍍用光阻

... 液，這些光阻用來形成3D直通矽穿孔(TSV)上的微凸塊、金柱凸塊與銅柱、晶圓級晶粒 ... 此外，我們供應高解析度光阻，可搭配Na2 CO3無機鹼性顯影劑使用。 PMER P-WE系列 ...

#49. 光電半導體製程中光阻剝離液之主成份分析

... 液產出，光阻剝離液重複使用在業界已為常態。因此，如何監測與調控重複使用的藥液組成，對產品良率的維持與提升相當重要。本研究以建立主要成分為乙醇胺和二甲基亞碸的 ...

#50. 光阻液

結構[ 編輯] TMAH的市售品以水溶液、甲醇溶液和五水合物為主，溶液濃度常見於25%。 · AZ ® 去光阻溶劑是無N-甲基吡咯酮（ N-methylpyrrolidone, NMP）成分 ...

#51. 第三章研究設計與實驗方法

... 光阻稱“負型光阻＂，其化學轉變. 則稱為聚合作用(polymerization)。將原先曝光與未 ... 顯影液. MF-319. Shipley. 揚博股份有限公司. 異丙醇. Isopropyl. Alcohol. 100%.

#52. 光電科技是國家科學技術發展的重點科技及關鍵性技術之一

表7.10 廢剝離液主成分之沸點. ... 例如：光電業常用之顯影液，經顯影程序洗去光阻後，原本流入廢水. 場處理，現在經 ...

#53. 光電業去光阻製程廢氣處理改善成功案例介紹

表1 去光阻劑主要化學成分之物化特性. 高沸點有機化合物. 分子量. (g/mole). 密度. (g/cm3) ... 本文實際測試結果發現，在去光阻液空氣污染物去除率方面：廢氣中去光阻液.

#54. 產品介紹

綠精靈系列 · Main Products · 水性溶劑型去光阻液 · 彩色濾光片重工液 · 電子級溶劑 · 中性玻璃清洗劑 · 溶劑型去光阻劑 · 金屬蝕刻液.

#55. 光阻液 - art-market.cz

... 成分多年以来，SACHEM 一直是用于电子应用的显影剂电子配方ArF光阻液 ... tmah有大量、广泛的工业和科研用途，例如在半導體器件製造中的黃光製程中當顯影液 ...

#56. 應用UV - LIGA 於導光板模仁之製作研究

... 成分，光阻液黏度的高低，與塗佈 ... (3) 產生火山狀的原因是因為SU-8 於曝光後烘烤(PEB)階段時，烘烤時間. 不夠，使SU-8 光阻未能充份鏈結，所以於顯影時，顯影液侵入光阻內 ...

#57. 罪魁禍首是光阻原料供應商，但台積電 ...

「化學原料供應商的一批光阻原料中某特定成分因被處理的方式與過去有異，導致光阻液中產生異質的聚合物。而此異質聚合物對晶圓14B廠生產的12/16奈米晶圓產生了不良影響 ...

#58. 最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)

RCA 濕式清潔法使用於兩種不同化學配方溶液，也. 就是標準清潔液1(SC-1)及標準清潔液2(SC-2)。 ... 因光阻主要的成份是碳氫氧有機物，當硫. 酸(H2SO4)和過氧化氫(H2O2)混合後 ...

#59. 顯影劑化學式 - 合法藥品大搜索

合法藥品大搜索，顯影劑成分,氫氧化四甲銨,顯影液半導體,顯影液危害,定影劑顯影劑,感光材料,長春顯影劑,鹵化銀.

#60. 面板材料

製程用化學品. 單成分化學品 功能性化學品. 光阻及顯影液. R/G/B 光阻，PS光阻，PI光阻，BM光阻 TMAH 系列. 面板玻璃研磨材料. 磨輪、磨棒. 公司資訊/ CONTACT US.

#61. 【光刻】显影液Developer

现在最普通的是四甲基氢氧化铵(TMAH) [1]。 显影液_1.png. 图1 正胶显影. TMAH水溶液的主要成分是水，占99%以上。它被 ...

#62. 半導體

丙二醇甲醚. PGME · 醋酸丙二醇甲醚酯. PGMEA · 醋酸正丁酯. NBAC · 環戊酮. CPN · 異丙醇. IPA · 丙酮. ACT · N-甲基吡咯烷酮. NMP

#63. 黃光考核項目

何謂正光阻、負光阻？ ◇ 敘述丙酮→異丙醇→去離子水→氣槍清潔的操作步驟？ 目的為何？ ◇ Piranha 的成分比例 ...

#64. 光阻液

AZ ® 去光阻溶劑是無N-甲基吡咯酮（ N-methylpyrrolidone, NMP）成分的新 ... 顯影液（去光阻液）。 結構[ 編輯] TMAH的市售品以水溶液、甲醇溶液和五 ...

#65. 半導體製造總覽

用於銅ECD 的電鍍液需要控管良好的化學成份並且不含污染物，以確保金屬沉積有正確 ... 將抗蝕劑沉積在晶圓上，然後透過掃描儀中的遮罩照亮抗蝕劑，隨後在顯影劑軌道中顯影。

#66. 義守大學工業工程與管理學系

... 顯影液將已曝光的光阻顯影成像。如. 此便將光罩上的線路圖樣複製在晶圓上。相似的 ... ➢ NDQ 熱退化敏感，導致交叉鏈結及增加高. 分子重量之光阻成分。 光阻上形成不需要 ...

#67. 曝光顯影

通過在曝光過程結束後加入顯影液，正光阻的感光區、負光阻的非感光區，會溶解於顯影液中。 ... 含有米吐爾與對苯二酚成分的MQ顯影劑[1] 在照相機感光膠片的 ...

#68. 黃光蝕刻

在液態的光阻中，溶劑成分占65％－85％。雖然在甩膠之後，液態的光阻已經成為固態的 ... 光阻的非感光區，會溶解於顯影液中。這個步驟完成後，光阻層中的圖形就可以顯現 ...

#69. 显影液的用途和参数问题——苏州深硅刻蚀

显影液 的主要成分是硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等，不仅可以用在半导体领域还有其他的用途。 主要用途：. 银盐胶片显影用的药液称显影 ...

#70. 曝光顯影 - akademiestresu.cz

為了提高解析度，幾乎每一種光阻都有專門的顯影液，以保證高品質的顯影效果。 硬烤工具. 含有米吐爾與對苯二酚成分的MQ顯影劑[1] 在照相機感光膠片的處理 ...

#71. 微影照像

顯影液 或蝕刻劑. Page 6. VLSI 概論. 6. (a)烘烤、塗底（priming）。 (b)旋塗光阻（此例為正型）、軟烤。 (c)曝光、硬烤。 (d)顯影。蝕刻。 (e)去除阻劑，離子植入（也可以 ...

#72. 显影-development | Litho wiki

水溶性碱显影液是最常见的紫外正胶和负胶的显影液，通常其主要作用成分是基于氢氧化钠或氢氧化钾溶液，或基于无金属离子有机TMAH(四甲基氨基氢氧化钠)碱的 ...

#73. 清英實業

CL-6690是一種專門設計用於乾膜(光阻)剝除液，除有效加速剝除外，可以清潔金屬表面之效果，在高溫操作下不會攻擊金屬(錫、鋁、銅)。藥液壽命長，是一款強效型多功能剝除液 ...

#74. 特用化學品檢測服務

為有效掌控製程良率降低製程污染之風險，對於製程上使用的各類化學品，無論是洗劑、蝕刻液、光阻劑、去光阻劑、顯影劑… ... 化學品主成份含量分析; 黏度、色度、吸光度分析.

#75. 將出現12年最慘營收衰退為什麼分析師説台積電做對事了？

晶圓製程中光阻劑被塗在晶圓後，接續的曝光顯影、蝕刻等步驟都和光阻劑 ... 孫又文解釋，光阻液由10多種成分混和，但供應商不知何故，其中一個成分用 ...

#76. 受託處理廢去光阻液遭民抱怨有異味正隆擬不燒了

環保局說，廢去光阻液的主要成分醇類和胺類，可能是科技公司的化學槽車，運送到正隆竹北廠後，在移置廠區的過程散發味道。胺類只要一點點就會有味道，但要 ...

#77. 半導體光阻剝離PR Strip 製程介紹

光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體，一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵，達到光阻去除的目的，傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ...

#78. 光阻劑

未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離，稱為正型光阻。 ... 成分，也是形成色相之來源，成本較高，其單價約是一般光阻的2~3倍以上 ...

#79. 正/负光刻胶的显影机理及区别

正性和负性显影液都是碱性溶剂,主要区别负性显影液中含有表面活性剂(surfactant) ,而正性显影液中没有这种成分。 ... 半导体行... · 发表于半导体行业观察.

#80. 格林达（603931.SH）

湿电子化学品，又称超高纯试剂或工艺化学品，是指主题成分纯度大于99.99%，杂质离子和微粒数符合要 ... 半导体、TFT-LCD 用剥离液、显影液产品. 韩国. 联仕 ...

#81. 台積電主動找上門》為何這家化工廠成竹科最愛今年營收衝破 ...

TMAH： 四甲基氫氧化銨，屬強鹼之有機化合物，半導體製程與面板製程所使用的顯影劑主要成分。 ... 液回收技術。 那時，巫信弘帶領公司團隊在全球繞了一圈 ...

#82. 光阻液 - generalidouai.fr

但是通常闻到除了光刻胶本身是一种chemical，显影液也是。. 光刻胶内最重要成分是对光敏感的有机物（polymer），另外就是能溶解光刻胶的溶剂。. 光阻 ...

#83. 以生物薄膜反應槽處理光電面板產業廢水之案例探討

般顯影液成分為四甲基氫氧化銨（Tetra-methyl ammonium hydroxide ,TMAH ... 用剝離液將完成蝕刻之基板上的光阻去除，去光阻液成分為二甲基亞. 碸 ...

#84. Re: [請益] 日本一直把持光阻劑市場？ - Tech_Job板

光阻的主成分都是差不多都是PGMEA/PGME 混一些固型劑再加一些感光劑. COA上 ... 你台灣老闆捨得嗎？ 講光阻可能太看的起台灣了 換講顯影液就好這種2.38 ...

#85. 公司介紹

• 光阻(PR：Photo Resistor)是一種有機化合物，又稱為. 「高分子 ... 正光阻(斷鍵)：被紫外光照射到的部份產生化學反應，. 使得化學鍵結變鬆散而容易被「顯影液」溶解掉。

#86. 信仰投资之光刻胶的成分

光刻胶（photoresist，也作光致抗蚀剂，光阻），是一种由聚合物树脂（resin），光敏化合物（photoactive compound）和溶剂等混合而成的胶状液体，从成份 ...

#87. 營運增溫永光、德淵收益加分

... 液；另還佈局碳化矽（SiC）研磨液、半導體前段、後段光阻劑、光阻剝離劑，提供化合物半導體上中下游之化學品。 ... 成分股衝上第一 · 00878當飆股漲了就賣 ...

#88. 光阻液

光阻主要由树脂(resin)，感光剂(sensitizer)，溶剂(solvent)三种成分混合而成。. 除了光刻胶本身是一种chemical，显影液也是。. 光阻种类: 光阻分为 ...

#89. 光阻液 - quercusseleccion.es

负光阻: 曝光后形成不容易溶于显影液的结构· 显影液和蚀刻液.doc. 带苯环的polymer多是强致癌物，如果被人体吸收，肯定有害。. 光刻胶内最重要成分是对光 ...

#90. 黃光微影製程 - bezvauklid.cz

對負光阻而言則作用相反，將使使曝光部分保留。 正光阻的成分有三種：溶劑、樹脂、光活性化合物。 溶劑可讓光阻保持容液狀態使光阻可以旋舖 ...

#91. 光阻液3rlghg

不鏽鋼水壺推薦 光阻液光阻主要由树脂resin感光剂sensitizer溶剂solvent三种成分混合而成. 光阻种类: 光阻分为正光阻及负光阻两种1. 正光阻: 光阻本身难溶于显影. 高雄 ...

#92. 光阻稀釋液/Thinner

光阻稀釋液/Thinner. 配合客戶使用不同光阻類型調配進而應用於IC/DRAM/NADA Flash製程中之光阻稀釋及洗邊液。 · 光阻顯影液/Developer · 光阻剝離液/Stripper.

#93. 清洗工艺- PCB设计- 电子工程世界

每个药液槽都有包含泵和过滤器的循环系统，延长药液的使用寿命，还有补充系统，定时补充新鲜药液，可以保持药液成分稳定。 ... 显影的制品会有灾难性影响， ...

#94. 光阻劑成分qbpu0l

... 半導體平整研磨液石英矽環及精細陶瓷組件矽晶圓Silicon wafer. 半導體材料光阻液及顯影不過其實人參有許多的種類各種人參所含有的營養成分及對症用藥會因其生長環境與 ...

#95. KrF光阻液

KrF光阻液. 微影製程中的感光物質，主要目的是將光罩上的圖像轉印至矽晶片中，KrF的 ...

#96. 光谱-仪器谱 - 分析测试百科网

离心机 微波萃取设备 快速溶剂萃取/液液萃取 固相萃取装置、固相萃取仪 超临界 ... 成分分析 经颅多普勒 测温门 黄疸仪 体温计 · 呼吸/听力/全科 · 肺功能仪 耳鼻喉治疗台 ...

#97. 去光阻液- 產品介紹

去光阻液除了去光阻效能外，還需要降低對底層Cu、Al金屬層的損傷。 近年來先進封裝製程導入低溫型固化型聚醯亞胺(Polyimide, PI) 薄膜，其耐化性較傳統 ...